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세계 최대 파운드리(반도체 위탁생산) 업체 TSMC 첨단 2㎚(나노미터·10억분의 1m) 공정 기밀 유출 사건 관련자들에게 최고 10년 형이 선고됐습니다.

27일(현지시간) 대만중앙통신·블룸버그통신 등에 따르면 대만 지식재산·상업법원 재판부는 국가보안법상 '국가핵심 주요기술 영업비밀의 역외사용' 혐의 등을 받는 TSMC 전 직원 천리밍에게 징역 10년 형을 선고했습니다.

대만 검찰은 TSMC 퇴직 후 도쿄일렉트론으로 이직한 천씨가 TSMC에서 일하던 다른 엔지니어들로부터 휴대전화로 촬영한 2나노 공정 기술 도면 등을 넘겨받았다며 지난해 8월 천씨에게 징역 14년 형을 구형했습니다.

천 씨에게 기술을 유출한 혐의 등을 받는 다른 관련자 4명은 각각 2년·3년·6년 형 및 징역 10개월에 집행유예 3년 형을 선고받았습니다.

재판부는 또 도쿄일렉트론 대만 지사에 벌금 1억5천만 대만달러(약 70억2천만원)를 부과하는 한편 TSMC 측에 1억 대만 달러(약 46억8천만원)를 지급하도록 했습니다.

대만 검찰은 "대만 반도체업계의 국제 경쟁력을 심각히 위협하는 사건"이라고 강조한 바 있으며, 천 씨에게 중형이 선고된 것은 반도체 산업을 보호하려는 대만 정부의 노력을 반영한다고 블룸버그는 해석했습니다.