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반도체 업계 '슈퍼을(乙)'로 불리는 ASML이 핵심 반도체 제조 장비의 광원 출력을 강화해 2030년 말까지 칩 생산량을 최대 50% 늘릴 수 있는 방법을 찾아냈다고 밝혔습니다.



현지시간 23일 로이터통신에 따르면, ASML은 고객이 요구하는 모든 조건을 충족하면서 현재 600와트인 EUV 광원의 출력을 1,000와트까지 높이는 방법을 발견했다고 밝혔습니다. 리소그래피 광원의 출력을 높일 경우 더 강력한 성능으로 시간당 더 많은 칩을 생산할 수 있어 개당 비용을 낮추는 데 도움이 됩니다.

ASML의 NXE EUV 장비 라인 담당 부사장인 테운 반 고흐는 로이터 통신과의 인터뷰에서 "이를 통해 고객들이 더 낮은 비용으로 EUV를 사용할 수 있다”고 말했습니다.

이 회사는 세계에서 유일하게 상용 극자외선(EUV) 리소그래피 장비를 제조하는 업체입니다. 이 장비는 대만 TSMC와 삼성전자, 인텔 등 반도체 제조업체들이 첨단 컴퓨팅 칩을 생산하는데 필수적입니다.

EUV 장비는 첨단 반도체 생산에 매우 중요하기 때문에 미국은 네덜란드 정부와의 협의로 대중 수출을 막았습니다. 이는 중국이 자체적으로 장비 개발에 착수하게 자극하기도 했습니다.