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[대만 내 도쿄일렉트론(TEL) (연합뉴스 자료사진)]

대만 검찰이 최대 반도체 파운드리(위탁생산) 업체인 대만 TSMC 최첨단 공정인 2㎚(나노미터·10억분의 1m) 기술을 유출한 전 직원에게 8년8개월형을 구형했습니다.



6일 자유시보와 중국시보 등 대만언론에 따르면 전날 대만 고등검찰서는 지난해 8월 2나노 기술 유출 혐의로 기소된 TSMC 전 직원 천리밍에 대한 추가 조사에서 또 다른 관련자 2명을 찾아냈다면서 이같이 밝혔습니다.

검찰은 TSMC 퇴직 후 도쿄일렉트론(TEL) 엔지니어로 이직한 천리밍이 물증을 제시하고 공범 천모 전 TSMC 엔지니어, 루모 TEL 고위 간부에 대해 실토했다고 전했습니다.

검찰은 천리밍은 회사 모니터에서 휴대전화로 촬영한 2나노 공정 관련 기밀 자료를 천씨에게 받아 TEL 클라우
드 드라이브에 올렸다고 덧붙였습니다.



하지만 추가로 체포된 천씨는 혐의를 전면 부인하면서 반성하는 태도를 전혀 보이지 않는 등 죄질이 매우 불량해 8년8개월형을 구형했다고 밝혔습니다.

앞서 TSMC의 최첨단 공정인 2㎚ 기술 유출 사건에 일본 기업으로 유출됐을 가능성이 제기되면서 대만 사회에 충격을 줬습니다.

대만 고등검찰서는 지난해 8월 국가안전법상 '국가핵심 관건기술 영업비밀의 역외사용' 혐의 등을 적용해 천리밍 등 3명을 기소했고, 천 씨 등 2명을 추가로 기소했습니다.