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[ASML 홈페이지의 극자외선(EUV) 노광장비 설명 (홈페이지 캡처=연합뉴스)]

중국이 첨단 반도체 생산에 필수적인 극자외선(EUV) 노광장비 시제품을 만들었으며, 이르면 2028년 이를 이용해 칩을 생산하겠다는 목표를 세운 것으로 전해졌습니다. 이번 EUV 개발 사업은 제2차 세계대전 당시 미국의 원자폭탄 개발에 빗대 '중국판 맨해튼 프로젝트'로 불린다는 게 소식통 설명입니다. 



EUV 노광장비는 현재 네덜란드 반도체 장비업체 ASML이 독점 생산 중입니다. 

로이터통신은 현지시간 17일 익명 소식통을 인용해 미중 기술 냉전의 핵심인 EUV 노광장비와 관련한 중국의 개발 현황을 보도했습니다. 

소식통은 중국 정부가 2028년 시제품을 이용해 작동 가능한 칩을 생산하겠다는 목표를 설정했다고 말했습니다.  다른 소식통은 2030년께가 좀 더 현실적인 목표라고 말했지만, 이 역시 10년은 걸릴 것이라는 기존 예상보다 빠르다며 중국의 반도체 자립 시점이 앞당겨질 수 있다고 로이터는 전망했습니다. 

소식통들은 ASML 출신의 고연봉 엔지니어로 구성된 팀이 ASML의 EUV 노광장비를 분해해 모방하는 식으로 올해 초 시제품을 완성해 테스트 중이라고 설명했습니다. 



ASML의 첨단 제품은 180t에 스쿨버스 정도 크기다. 중국 시제품이 이보다 몇 배 크고 완성도도 떨어지지만, 테스트할 정도는 된다는 것입니다. 
   
한편 ASML 측은 "기업들이 우리 기술을 베끼고 싶어 하는 것은 이해되지만 간단한 일이 아니다"고 말했습니다.