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반도체 업황 회복 기대감이 커지는 가운데 삼성전자와 SK하이닉스가 올해 1분기 연구개발(R&D) 비용과 시설 투자를 늘린 것으로 나타났습니다. 



15일 삼성전자와 SK하이닉스가 공시한 분기보고서에 따르면, 삼성전자는 올해 1분기 연구개발비용으로 9조348억 원을 집행했습니다. 

이는 작년 1분기 7조8천201억 원 대비 15.5% 증가한 수준이며 1분기 기준 역대 최대 규모입니다.

1분기 삼성전자 시설투자액은 모두 11조9천983억 원으로 지난해 1분기 11조3천87억 원과 비교해 6.1% 늘었습니다.

반도체 사업을 하는 디바이스솔루션(DS)부문 투자액이 9조6천663억 원에서 10조9천480억 원으로 13.3% 늘어 증가 폭이 컸습니다.



삼성전자 측은 시설투자와 관련해 "DS부문 및 삼성디스플레이 등의 첨단공정 증설·전환과 인프라 투자를 중심으로 시설 투자가 이뤄졌다"라고 설명했습니다.

아울러 "메모리 차세대 기술 경쟁력 강화 및 중장기 수요 대비를 위한 투자를 지속적으로 추진했고 시스템 반도체는 선단 노드 생산능력(CAPA) 확보를 위한 투자를 진행 중"이라고 덧붙였습니다.

최대 실적 행진을 이어가는 SK하이닉스도 올해 1분기 연구개발비와 시설투자를 대폭 확대했습니다.

연구개발 비용으로는 1분기에 1조5천440억 원을 쓰며 작년 1분기 1조1천90억 원 대비 39.2% 증가했습니다.

SK하이닉스의 1분기 시설투자액은 지난해 1분기 2조9천430억 원 대비 2배로(99.9%) 늘어난 5조8천840억 원으로 급증했습니다.

한편, 1분기 삼성전자의 재고자산은 53조2천203억 원으로 작년 말 51조7천549억 원 대비 2.8% 늘었습니다.

SK하이닉스의 재고자산은 작년 말 13조3천139억 원에서 올해 1분기 14조5천514억 원으로 9.3% 증가했습니다.