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검찰이 반도체 핵심 기술을 중국 회사에 유출한 혐의를 받는 삼성전자 전직 부장에게 1심에서 징역 20년을 구형했습니다.

검찰은 오늘(12일) 서울중앙지법 형사25부(지귀연 부장판사) 심리로 열린 김 씨의 산업기술 유출 방지·보호에 관한 법률 위반 등 혐의 결심공판에서 징역 20년을 선고해달라고 요청했습니다.

김 씨와 함께 재판에 넘겨진 협력업체 전직 직원 방 씨에게는 징역 10년을 구형했습니다.

검찰은 "기술 유출 범죄는 국가와 피해 기업의 기술적 기반을 흔들 수 있는 중대 범죄"라며 "제2, 제3의 범죄가 발생하지 않도록 엄정한 법 집행을 통해 경종을 울려야 한다"고 강조했습니다.

김 씨는 최종진술에서 "중국 CXMT(창신메모리테크놀로지)의 모든 자료는 CXMT 경영층과 박사급들이 만들어내는 자료로 제가 만들 수 있는 자료는 일부에 불과하다"며 "물의가 발생한 데 대해 진심으로 사죄한다"고 말했습니다.

선고는 내년 1월 22일 이뤄질 예정입니다.

김 씨는 국가 핵심기술인 삼성전자의 18나노 D램 반도체 공정 정보를 무단 유출해 중국 기업 CXMT가 제품 개발에 사용하게 한 혐의로 지난 1월 기소됐습니다.

방 씨는 김 씨와 공모해 반도체 장비를 납품하는 A사의 설계기술자료를 CXMT에 넘긴 혐의를 받습니다.

중국의 주요 D램 반도체 업체인 CXMT는 삼성전자, SK하이닉스, 마이크론에 이어 4위로 올라선 가운데 주요 경쟁사들과 기술 격차를 좁혀나가고 있습니다.