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국가핵심기술인 '초임계 반도체 세정 장비' 제조 기술을 중국에 유출한 세메스 전 연구원 등이 1심에서 징역형을 선고받았습니다. 

수원지법 형사15부(이정재 부장판사)는 11일 부정경쟁방지법 위반 등 혐의로 구속기소 된 세메스 전 연구원 A씨에게 징역 5년에 벌금 5억원을 선고했습니다.

또 A씨가 세메스에서 퇴직한 후 2019년 설립한 반도체 장비제조업체 법인에 벌금 10억원을 내라고 주문했습니다.

재판부는 범행에 가담한 기술 유출 브로커 B씨와 세메스 협력사 대표 C씨 등 4명에게 징역 2∼4년씩 선고하고, 이들에게 각각 벌금 300만원∼3억원을 내라고 판결했습니다.

다만 이들 중 세메스 협력사 직원 D씨는 수사 협조와 범행 자백 등이 참작돼 징역형에 집행유예 3년이 선고됐습니다.

재판부는 "이 사건에서 유출 및 부정 사용된 자료들은 피해 회사(세메스)가 다년간 연구하고 개발해 얻어낸 성과이고, 일부는 국가핵심기술로 평가된다"며 "이런 범죄를 가볍게 처벌한다면 기업 입장에선 기술 개발에 매진할 동기가 없어지고 해외 경쟁업체가 우리나라 기술력을 손쉽게 탈취하는 것을 방지하지 못하는 결과를 낳게 될 것"이라고 판시했습니다.

이어 "피해 회사의 피해 규모를 당장 명확한 수치로 나타낼 수 없다고 하더라도 손해를 가벼운 것으로 치부할 수 없다"며 "피해 회사는 피고인들에 대한 엄벌을 탄원하고 있다"고 덧붙였습니다.

A씨는 2016년 세메스를 그만두고 2019년 다른 회사를 설립한 뒤 2021년 6월 세메스가 세계 최초로 개발한 '초임계 반도체 세정 장비' 핵심 도면을 C씨로부터 취득해 이를 브로커 B씨를 통해 중국에 유출한 혐의를 받습니다.

C씨는 A씨에게 초임계 도면을 넘겨주는 대가로 A씨로부터 38억원 투자금을 받은 것으로 조사됐습니다. 브로커 B씨는 16억원을 전달받았습니다.

초임계 세정 장비는 초임계(액체와 기체를 구분할 수 없는 상태) 이산화탄소로 반도체 기판을 세정하는 설비입니다.

이 기술은 기판 손상을 최소화하는 차세대 기술로, 산업통상자원부가 지정한 국가핵심기술입니다.

A씨는 지난해 9월 중국 민간 반도체 업체에 초임계 세정장비 10대(대당 248억원)를 납품한 뒤 기술을 이전하기로 협약했으나, 다행히 검찰 수사가 시작되면서 실제 장비 납품은 한 대도 이뤄지지 않은 것으로 파악됐습니다.

A씨는 함께 기소된 세메스 전 연구원 D씨와 공모해 2021년 5∼7월 세메스가 일본에 이어 세계 2번째로 개발한 '매엽식 인산 세정장비 기술 정보'를 자신이 운영하는 회사 내부 직원들에게 누설한 혐의도 받습니다.

인산 세정장비는 인산 약액을 이용해 반도체 웨이퍼를 1개씩 세정하는 장비입니다.

앞서 A씨는 지난해 5월 세메스가 개발한 습식 반도체 세정 장비 기술을 유출한 혐의로 올해 2월 1심에서 징역 4년을 선고받았습니다.

반도체 세정장비는 반도체 기판에 패턴을 조각하는 과정에서 발생하는 오염물질을 제거하는 장비입니다.