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국내 반도체 세정 기술을 중국으로 유출한 혐의로 재판에 넘겨진 세메스 전 연구원 등 7명이 징역형을 선고받았습니다. 



수원지법 형사15부(이정재 부장판사)는 산업기술의 유출 방지 및 보호에 관한 법률, 부정경쟁 방지 및 영업 비밀 보호에 관한 법률 위반 등 혐의로 기소된 세메스 전 연구원 A씨에게 징역 4년을 선고했다고 20일 밝혔습니다. 

또 A씨가 세메스를 퇴직한 후 2019년 설립한 반도체 장비제조업체 법인에 벌금 10억원을 내라고 선고했습니다. 

재판부는 범행에 가담한 세메스 협력사 직원 B 등 6명에게 각각 징역 2년 6월을 선고하고, 이들 중 가담 정도가 경미한 세메스 전 직원 C씨 등 2명에게는 집행유예 3년에 사회봉사 80시간 이수를 명령했습니다. 

재판부는 "이 사건에서 유출 및 부정 사용된 자료들은 피해 회사(세메스)가 다년간 연구하고 개발해 얻어낸 성과이고, 일부는 국가 핵심기술로 평가된다"며 "이런 범죄를 가볍게 처벌한다면 기업 입장에선 기술 개발에 매진할 동기가 없어지고 해외 경쟁업체가 우리나라 기술력을 손쉽게 탈취하는 것을 방지하지 못하는 결과가 될 것"이라고 판시했습니다. 



이어 "피해 회사의 피해 규모를 당장 명확한 수치로 나타낼 수 없다고 하더라도 손해를 가벼운 것으로 치부할 수 없고, 피해가 전부 회복되기 어렵다"며 "피해 회사는 피고인들에 대한 엄벌을 탄원하고 있다"고 덧붙였습니다. 

A씨 등은 2018년 3월부터 2021년 12월까지 3년여간 세메스의 영업비밀인 반도체 습식 세정장비 제작 기술 등을 부정 사용해 장비 24대의 설계도면을 만든 뒤 이를 이용해 710억원 상당의 장비 14대를 제작, 중국 경쟁업체 또는 중국 반도체 연구소에 수출한 혐의로 기소됐습니다. 

이들은 세메스 협력업체에 부탁하거나 세메스를 퇴직할 때 관련 정보를 반납하지 않는 방식으로 세정장비 기술 정보와 설계도면 등을 부정한 방법으로 취득한 것으로 나타났습니다. 

반도체 세정장비는 반도체 기판에 패턴을 조각하는 과정에서 발생하는 오염물질을 제거하는 장비입니다. 

세메스는 반도체 불량 발생 비율을 혁신적으로 낮출 수 있는 초임계(액체와 기체를 구분할 수 없는 상태) 건조기법 등 다양한 세정방식을 개발하며 업계를 선도해왔습니다.